创造气氛保护环境、协助客户创造价值
Lab2000单工位一
2018新款 Lab2000
Lab2000-2400四工
Lab2000单工位分
ATTO10-R 高真空
Mop300-O手动高真
技术参数:
1 本底真空:10-7 Torr;
2 单基片设计,尺寸可定制;
3 基片可旋转并加热:300℃/500℃/800℃;
4 溅射:1-3支磁控溅射靶枪,可共溅射;
5 电子束蒸发:4-6坩埚
6 热蒸发:1-3蒸发源;